Поделиться
Россия готовится к выпуску десятков тысяч фотошаблонов для современных микросхем
В 2026 г. в стране начнет работать центр по изготовлению фотошаблонов для интегральных схем. Предприятие намеревается выйти на мощности около 10 тыс. заготовок ежегодно и освоить производство шаблонов для чипов, изготавливаемых по технологии 28 нанометров. Такое проект мог обойтись государств в несколько десятков миллиардов рублей.
Центр изготовления фотошаблонов
Как стало известно CNews, в 2026 г. в России откроется Научно-технологический центр по изготовлению фотошаблонов (НТЦ ФШ). НТЦ ФШ будет выпускать фотошаблоны до 28 нанометров (нм) для производства интегральных схем. Это следует из презентации проекта, которая есть в распоряжении CNews.
В 2026 г. планируется разработка фотошаблонов 350 и 250 нм. На 2027 г. запланирована разработка фотошаблонов на 180 нм и начало выпуска 350 нм, в 2028 г. в плане разработка 90 нм и выпуск 250 нм, в 2029 г. — выпуск 180 и 90 нм. План к 2030 г. - достичь выпуска фотошаблонов 65 нм. В перспективе запланировано освоение фотошаблонов 28 нм, следует из документа.
Площадь производственного здания в Зеленограде составит 14,5 тыс. кв м. Производственная мощность предприятия должна составить около 10 тыс. заготовок ежегодно, следует из документа.
В рамках проекта планируется локализация критически важных технологий, обеспечение российского рынка и возможность экспорта продукции.
В проекте участвуют правительство Москвы, Минпромторг, Минобрнауки и Национальный исследовательский университет «Московский институт электронной техники».
Цепочка производителей
НТЦ ФШ будет работать в технологической цепочке, которую возглавляет компания «Лассард», производитель синтетического кварцевого стекла. Российский федеральный ядерный центр (РФЯЦ ВНИИЭФ) будет изготовлять подложки из этого материала.
НТЦ ФШ будет заниматься производством фотошаблонных заготовок для длины волны 248 и 193 нм и производством фотошаблонов для технологий уровня 180-28 нм.
Потребителями продукции для изготовления микросхем станут «Микрон», «НМ-Тех», НИИМЭ и т.д.
Какое оборудование и откуда
Согласно презентации, в базовый перечень технологического оборудования для производства фотошаблонных заготовок входят 19 установок из разных стран. Из них есть оборудование, которое закупается для НТЦ ФШ. К ним относятся американская установка контроля кварцевых подложек, немецкий оптический микроскоп с источником ультрафиолета, китайская установка контроля толщины слоев и пр.
Есть и две российских установки для анализа кристаллографических параметров слоев и атомно-силовой микроскоп.
Также НТЦ ФШ требуются установки отмывки, различное оборудование для контроля ФШ, установка нанесения сушки, вакуумной упаковки и т.д.
Что это значит для отрасли
В России есть несколько заводов по производству фотошаблонов, говорит Ольга Квашенкина, глава холдинга SNDGLOBAL. Среди таковых Зеленоградский инновационно-технологический центр (ЗИТЦ) и Центр коллективного пользования «Фотошаблоны» (ОЭЗ). Оба предприятия освоили выпуск масок для интегральных схем «с проектными нормами до 180 нм». Но производства шаблонов с полноценным стеком под 65–28 нм в стране нет, отмечает эксперт.
По мнению Квашенкиной, при реализации проекта могут возникнуть трудности не только с оборудованием, но и с материалами и ПО.
«Во-первых, заготовки: для 248/193 нм нужны кварцевые пластины высокой чистоты, ровности и низкой дефектности. В 2025 году Минпромторг прямо выделяет кварц или синтетическое кварцевое стекло среди приоритетных направлений локализации, то есть импортозависимость по субстрату и покрытию официально признана, — говорит эксперт. — Пелликлы (пленка для защиты фотошаблона - прим. CNews) для 193 нанометров остаются отдельной узким горлышком».
Среди плюсов Ольга Квашенкина выделила снижение стратегических рисков для страны. «Для производственных узлов 180–65 нм (а к 2027 году государственные планы прямо называют 28 нм как целевой собственный маск-шоп — это снятие таможенно-логистического лага в недели, исчезновение рисков «отзыва» пелликлов и возможность быстрой коррекции дизайна», — отмечает она.
Существенен и эффект масштаба: если центр действительно поднимет линию фотошаблонных заготовок на 248/193 нм с мощностью порядка 10 тыс. штук в год, то это закрывает потребности не только масок для интегральных схем, но и смежных направлений (СВЧ-структуры, МЭМС, оптоэлектроника), а также создает рынок для отечественных поставщиков химии, оснастки и чистых процессов, считает эксперт.
В целом на реализацию проекта, по мнению Ольги Квашенкиной, может потребоваться около 15–30 млрд руб.
Короткая ссылка
