Поделиться
Китай до конца года начнет тестовый выпуск EUV-литографов для производства чипов
Китайские специалисты завершают разработку установок литографии в экстремальном ультрафиолете, а тестовое производство стартует уже в III квартале 2025 г. Новая система в настоящее время тестируется на заводе Huawei в Дунгуане. Это может стать значительным шагом к снижению зависимости страны от западных технологий, особенно на фоне запрета властей Нидерландов на поставку оборудования производителя ASML в Китай.
Запуск тестового производства
Китай делает значительный шаг вперед в разработке технологий экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии, которая долгое время оставалась прерогативой нидерландской компании ASML. Как пишет Wccftech, новый литографический комплекс уже проходит тестирование на заводе Huawei.
По информации Wccftech, машина EUV, использующая технологию лазерной плазменной обработки (LDP), будет запущена в пробное производство в III квартале 2025 г., а массовое производство начнется в 2026 г. Испытания прототипа уже ведутся в исследовательском центре Huawei в Дунгуане. Сообщается, что система использует метод LDP т.е. испарения олова между электродами с последующей ионизацией плазмы при высоком напряжении.
По мнению опрошенных экспертов, хоть китайская разработка использует метод LDP, который отличается от традиционной технологии ASML. Новый подход упрощает конструкцию оборудования, делает его более энергоэффективным и снижает затраты на производство. Этот процесс более доступен и менее энергозатратен по сравнению с европейскими аналогами, что делает технологию перспективной для массового внедрения.
Когда в 2024 г. власти Соединенных Штатов ввели санкции на поставки EUV-лазеров в Китай, развитие полупроводниковой промышленности в Китае было ограничено, поскольку в стандартных системах DUV-литографии используются длины волн 248 нанометров (нм) (KrF) и 193 нм (ArF). Они менее совершенны, чем излучение EUV-лазеров с длиной волны 13,5 нм, и требуют нескольких этапов формирования рисунка для достижения передовых технологий.
Примечательно, что голландскому гиганту полупроводниковой промышленности ASML запретили продавать свои самые современные EUV-машины в Китай. Президент и генеральный директор ASML Кристоф Фуке (Christophe Fouquet) в конце 2024 г. заявлял, что запрет на экспорт этих машин в Китай приведет к отставанию полупроводниковой промышленности страны на 10–15 лет.
Новый метод
По информации TrendForce, Китай, по-видимому, нашел альтернативный подход к генерации экстремально-ультрафиолетового лазерного излучения. В январском материале South China Morning Post (SCMP) говорится, что исследовательская группа из Харбинского инновационного центра разработала «источник экстремально-ультрафиолетового литографического света на основе разрядной плазмы», способный генерировать экстремально-ультрафиолетовое излучение с длиной волны 13,5 нм, отвечающее требованиям рынка фотолитографии.
По данным TechPowerUp, новая китайская система, находящаяся на стадии тестирования, использует подход LDP для генерации излучения EUV с длиной волны 13,5 нм, испаряя олово между электродами и превращая его в плазму с помощью высоковольтного разряда, при этом столкновения электронов с ионами создают излучение с необходимой длиной волны.
В отличие от метода лазерно-плазменной обработки (LPP) от компании ASML, который основан на использовании высокоэнергетических лазеров и сложных систем управления на базе field-programmable gate array (FPGA), в отчtте указано, что китайский метод LDP отличается более простой конструкцией, меньшей площадью, более высокой энергоэффективностью и потенциально более низкими производственными затратами.
Западные санкции на поставки оборудования
Как писал CNews, крупнейший в мире производитель оборудования для выпуска полупроводников нидерландская компания ASML с долей рынка около 90% в 2024 г. ограничивает поставки своей продукции на китайский рынок. Производитель постепенно перестраивает свой бизнес так, чтобы не зависеть от Китая. В 2025 г. она намерена сократить долю китайских клиентов в своей общемировой выручке почти вдвое — до 20%, тогда как в 2024 г. она была на уровне 36%.
В Китае большую часть сканеров ASML закупает компания SMIC, местный контрактный производитель чипов. В настоящее время SMIC находится под санкциями США. Американские власти посредством нидерландских чиновников давят на руководство ASML, чтобы те не продавали современное оборудование в Китай, а также уменьшали поставки устаревшего ранее отгруженного оборудования.
Короткая ссылка
